成都鑫南光機械設備有限公司帶大家一起來看一下成都真空鍍膜機的參數：

一、真空鍍膜機主要用途：

供制備薄膜無源微型元件。

二、主要技術指標：

1．          蒸發(fā)室極限真空度：       4×10-4Pa

2．          蒸發(fā)室恢復4×10-3Pa的時間：  ≤15min

3．          基片旋轉架的轉速：           0～60n/min

4．          基片烘烤溫度：               室溫～350℃

5．          蒸發(fā)電極數量：               3對

6．          蒸發(fā)電極參數：                0～10伏   0～300A

7．          離子轟擊參數：                0～3000伏  0～200mA

8．          鐘罩容積：                    Φ500×620（mm）

9．          需要動力：                   電力    10KW

10．         外形尺寸：                     1300×830×1720(mm)

希望以上關于成都真空鍍膜機的介紹對你有所幫助，更多信息可以直接撥打網站上的咨詢電話和我們取得聯(lián)系。