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G-33D4型高精密雙面光刻機(jī)

一、主要用途:(1) 這是一臺(tái)雙面對準(zhǔn)單面曝光的光刻機(jī);(2) 這臺(tái)機(jī)器又能完成普通光刻機(jī)的任何工作;(3) 同時(shí)又是一臺(tái)檢查雙…

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G-33D4型高精密光刻機(jī)


產(chǎn)品介紹:

設(shè)備概述

本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位,主要用于集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)**,找平力小,使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片的曝光,而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光, 這是一臺(tái)雙面對準(zhǔn)單面曝光的光刻機(jī),它不僅能完成普通光刻機(jī)的任何工作,同時(shí)還是一臺(tái)檢查雙面對準(zhǔn)精度的檢查儀。

主要構(gòu)成

主要由高精度對準(zhǔn)工作臺(tái)、雙目分離視場立式顯微鏡或雙目分離視場臥式顯微鏡、數(shù)字式攝像頭、計(jì)算機(jī)成象記憶系統(tǒng)、4LED專用曝光頭、PLC控制系統(tǒng)、氣動(dòng)系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級防震工作臺(tái)和附件箱等組成。

CCD顯微系統(tǒng)X、Y、Q對準(zhǔn)工作臺(tái)Z軸升降機(jī)構(gòu)








曝光頭及部件圖

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CCD顯微系統(tǒng)|X、Y、Q對準(zhǔn)工作臺(tái)

主要功能特點(diǎn)

1.適用范圍廣
適用于110mm×110mm以下、厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準(zhǔn)曝光。

2.套刻精度高、速度快
采用版不動(dòng),片動(dòng)的下置式三層導(dǎo)軌對準(zhǔn)方式,使導(dǎo)軌自重和受力方向保持一致,自動(dòng)消除間隙;承片臺(tái)升降采用無間隙滾珠直進(jìn)導(dǎo)軌、氣動(dòng)式Z軸升降機(jī)構(gòu)和雙簧片微分離機(jī)構(gòu),使本機(jī)片對版在分離接觸時(shí)漂移特小,對準(zhǔn)精度高,對準(zhǔn)速度快,從而提高了版的復(fù)用率和產(chǎn)品的成品率。

4.可靠性高
采用PLC控制、進(jìn)口(日本產(chǎn))電磁閥和按鈕、獨(dú)特的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和經(jīng)過精密機(jī)械制造工藝加工的零件,使本機(jī)運(yùn)行具有非常高的可靠性且操作、維護(hù)、維修簡便。

5. 特設(shè)功能
除標(biāo)準(zhǔn)承片臺(tái)外,我公司還可以為用戶定制專用承片臺(tái),來解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準(zhǔn)的問題。

主要技術(shù)指標(biāo)

14LED紫外專用曝光頭

2)曝光面積:110mm×110mm;

3)曝光強(qiáng)度:030mw/cm2可調(diào);

4)紫外光束角:≤3°;

5)照明不均勻性: ±3%

6)紫外光中心波長:365nm;

7)紫外光源壽命:≥2萬小時(shí);

8)工作面溫度:≤30

9)采用電子快門;

10)曝光分辨率:1μm(曝光深度為線寬的10倍左右)

11曝光時(shí)間采用0999.9秒(日本OMRON生產(chǎn))時(shí)間繼電器控制。

12)套刻精度:1μm

13觀察系統(tǒng)為上下各兩個(gè)無級變倍、高分辨率單筒顯微鏡上裝四個(gè)CCD攝像頭通過視屏線連接計(jì)算機(jī)到19″高清液晶顯視屏上。

a、 單筒顯微鏡為1.6X10X連續(xù)變倍顯微鏡;

b、CCD攝像機(jī)靶面對角線尺寸為:1/3″;

c、 采用19″液晶監(jiān)視器,其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍;

d、觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為:1.6×57=91倍(*小倍數(shù))

10×57=570倍(*大倍數(shù));


【全文完】

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