G-31D4型高精密光刻機(jī)  

產(chǎn)品介紹：

設(shè)備概述

本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)。主要構(gòu)成 本設(shè)備為板板對(duì)準(zhǔn)雙面曝光<span style="font-family:;" "="">

主要由雙目視場(chǎng)CCD顯微顯示系統(tǒng)、二臺(tái)4"LED專用曝光頭、PLC電控系統(tǒng)、高精度對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、Z軸升降機(jī)構(gòu)、真空管路系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級(jí)防震工作臺(tái)等組成。

主要功能特點(diǎn)

1.適用范圍廣

適用于φ100mm以下、厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對(duì)準(zhǔn)曝光，雙面可同時(shí)曝光，亦可用于單面曝光。

2.結(jié)構(gòu)

Z軸采用滾珠直進(jìn)式導(dǎo)軌和可實(shí)現(xiàn)硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu)，真空吸版，防粘片機(jī)構(gòu)。

3.操作簡(jiǎn)便

X\Y移動(dòng)、Q轉(zhuǎn)、Z軸升降采用手動(dòng)方式；吸版、反吹采用按鈕方式，操作、調(diào)試、維護(hù)、修理都非常簡(jiǎn)便。

4. 可靠性高

采用進(jìn)口（日本產(chǎn)）電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用獨(dú)特的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機(jī)械零件，使本機(jī)運(yùn)行具有非常高的可靠性。采用進(jìn)口（日本產(chǎn)）電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用獨(dú)特的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和

5. 特設(shè)功能

不平的基片造成的版片分離不開(kāi)所引起的版片無(wú)法對(duì)準(zhǔn)的問(wèn)題  

主要技術(shù)指標(biāo)

2、曝光面積：102×102mm；

3、曝光照度不均勻性：≤±3%；

4、曝光強(qiáng)度：0～30mw/cm2可調(diào)；

5、紫外光束角：≤3°；

6、紫外光中心波長(zhǎng)：365nm；

7、紫外光源壽命：≥2萬(wàn)小時(shí)；

8、工作面溫度：≤30℃

9、采用電子快門(mén)；

10、曝光分辨率：1μm(曝光深度為線寬的10倍左右)

11、曝光模式：雙面同時(shí)曝光

12、對(duì)準(zhǔn)范圍：X:±5mm Y:±5mm

13、套刻精度：1μm

14、旋轉(zhuǎn)范圍：Q向旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)≤±5°

15、顯微系統(tǒng)：雙視場(chǎng)CCD系統(tǒng)，物鏡1.6X～10X，計(jì)算機(jī)圖像處理系統(tǒng)，19″液晶監(jiān)視器；

16、掩模版尺寸：能真空吸附5"方形掩板，對(duì)版的厚度無(wú)特殊要求（1～3mm皆可）。

17、基片尺寸：適用于4"基片，基片厚度0.1－2mm。