鑫南光公司小編為大家介紹關(guān)于成都光刻機(jī)的產(chǎn)品特點(diǎn)：

一、主要用途

本設(shè)備是我公司針對各大專院校及科研單位對光刻機(jī)的使用特性專門研發(fā)的一種精密光刻機(jī)，它 主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

二、主要構(gòu)成

主要由高精度對準(zhǔn)工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統(tǒng)、曝光頭、氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、防震工作臺和附件箱等組成。

三、主要功能特點(diǎn) :

1.適用范圍廣:

適用于Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準(zhǔn)曝光。

2.結(jié)構(gòu)**

具有半球式找平機(jī)構(gòu)和可實(shí)現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu)；具  有真空掩膜版架、真空片吸盤。

3.操作簡便

采用翻板方式取片、放片；按鈕、按鍵方式操作，可實(shí)現(xiàn)真空 吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能，操作、調(diào)試、維護(hù)、修理 都非常簡便。

4.可靠性高

采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用獨(dú)特的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機(jī)械零件，使本機(jī)具有非常高的可靠性。

5.特設(shè)“碎片”處理功能

解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準(zhǔn)的問題。

四、主要技術(shù)指標(biāo):

1、曝光頭:采用蠅眼曝光頭

2、曝光類型：單面

3、曝光面積：φ100mm

4、光束不平行度：≤6°

5、曝光不均勻性：≤±3%

6、掩模版尺寸：2.5″×2.5″、4″×4″、 5″×5″

7、基片尺寸：φ2″、φ3″、φ4″

8、基片厚度：≤5 mm

9、曝光強(qiáng)度：≥5mw/cm2

10、曝光分辨率：≤1.0μm

11、曝光模式：套刻曝光

12、對準(zhǔn)精度：1μm

13、掃描范圍：X：±40mm   Y：±35mm

14、對準(zhǔn)范圍：承片臺相對于版運(yùn)動為：

①x、y±5mm運(yùn)動，放大比為400:1；

②Q轉(zhuǎn)動為±5°；③Z軸運(yùn)動≤4mm；

15、密著曝光方式：密著曝光可實(shí)現(xiàn)硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光；

16、顯微系統(tǒng)：雙視場CCD系統(tǒng)；連續(xù)可調(diào)（物鏡0.7～4.5倍連續(xù)可調(diào)）；

計(jì)算機(jī)圖像處理系統(tǒng)；

17、曝光燈功率：直流350W

18、曝光定時(shí)：0～999.9秒可調(diào)

19、電源：AC220V 50Hz 1kW

20、空氣：P≥0.1MPa，耗氣量0.2m3小時(shí)；

21、真空度：-0.07MPa～-0.09MPa

22、外形尺寸：918×680×1450(L×W×H)mm

23、重量：～160kg

更多關(guān)于成都光刻機(jī)的信息可以直接撥打網(wǎng)站上的咨詢電話和我們?nèi)〉寐?lián)系。